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HPR-80, Analizador Cuantitativo de Gas |
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Análisis cuantitativo rápido de mezclas reactivas o corrosivas introducidas en una cámara u obtenido durante un proceso.  | - Estudio del grabado iónico utilizando iones de plasma o iones reactivos
- CVD / PVD / MOCVD
- Estudios de fabricación de plaquitas (wafer) de semiconductores
- Procesos al vacío / plasma
- Análisis cuantitativo de especies reactivas
- Estudios de proceso utilizando: HF, HCI, HBr y las CFC
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Características del HPR-80 Hiden, un instrumento específicamente concebido para el análisis muy potente de gases corrosivos y control de fabricación del semiconductor y de procesos al vacío: Fuelles flexibles pulidos por electrólisis y calentados, conectores de montaje rápido. Capilares de introducción de calibración QIC para análisis cuantitativos; QIC purgado por flujo viscoso de gas inerte. Gran sensibilidad (hasta 5 ppb) rango de masa hasta 2500 uma. Presión de muestreo: de 1 mTorr hasta presión atmosférica. Manómetro capacitado para un control de la presión independiente de los gases. Estabilidad (menos de ±0,5% de variación global de pico a pico en 24 h). Software MASsoft de control mediante un interface RS232, RS485 o una red Ethernet LAN. Inversión de matriz, normalización y utilización de un pico simple como referencia.
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