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ICP, Puesto de Trabajo Plasma con Analizador EQP |
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Análisis combinado de masas y de energía de todas las especies durante procesos plasma RF.  | Estudios de plasma y de erosión/del grabado iónico CVD / PVD / MOCVD Modificación de superficie Procesos en vacío / por plasma Limpieza y esterilización por plasma Deposición y modificación d capas finas Fabricación y modificación de materiales composites |
Características del puesto de trabajo plasma Hiden, un conjunto integrado reactor RF-ICP Y analizador de plasma para todos los estudios de procesos plasma: Célula cilíndrica de cuarzo, 100 mm de diámetro. Bobina de inducción en cobre de 4 espiras, con equipo de enfriamiento y ajuste de la bobina a 100 mm. Generador RF 13,56 MHz, hasta 200 W con dispositivo de ajuste. Pantalla RF (440 x 340 x 340 mm). Enfriamiento por aire, control del doble flujo manual o automático. Rampa de doble bombeo turbo molecular montada en diferencial. Sonda de presión capacitiva y visualización de la presión de la célula. Analizador de plasma HIDEN EQP 500 con variación de z en 100 mm comandado por software MASsoft. Analizador de masas y de energía para los iones positivos y negativos, los neutros y radicales.
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