Les procédés du vide nécessitent un contrôle strict de la composition du gaz et des contaminants pour maintenir et améliorer la qualité et le rendement des produitsmanufacturés.

Le système Hiden HPR-30 est analyseur de gaz résiduel pompé différentiellement avec un système d'échantillonnage permettant une haute sensibilité et une réponse rapide lors de la mesure des gaz de procédés ayant des pression allant de 10^-4 mbar à 1 mbar.

Produits

HPR-30

Vacuum process gas analyser.

Série RGA

RGA series quadrupole mass spectrometers.

HMT100-RC

HMT High pressure residual gas analyser.

Série 3F

Triple filter high performance quadrupole mass spectrometers.

Pièces Détachées

Quadrupole mass spectrometer components.

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Characterisation of an ICP Reactor (1) (159K)

Characterisation of an ICP Reactor (2) (286K)

Mass Spectrometry of Processing Plasmas with the EQP Mass/Energy Analyser (106K)

Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (200K)

Quantative Analysis of Flourine-Containing Process Streams (192K)

Quadrupole Mass Spectrometers for RGA, Gas Analysis and Process Monitoring (681K)

In-Situ Characterisation of ALD Titanium Dioxide (554K)

Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (343K)

HPR30 Series Orifice Sampling Process Gas Analysers (358K)