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ICP, Poste de Travail Plasma avec Analyseur EQP |
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Analyse combinée de masse et d’énergie de toutes les espèces lors de procédés plasma RF.  | Etudes de plasma et d’érosion/de la gravure ionique CVD / PVD / MOCVD Modification de surface Procédés sous vide / par plasma Nettoyage et stérilisation par plasma Dépôt et modification de couches minces Fabrication et modification de matériaux composites |
Caractéristiques du poste de travail plasma Hiden, un ensemble intégré réacteur RF-ICP et analyseur de plasma pour toutes les études de procédés plasma: Cellule cylindrique en quartz, 100mm de diamètre. Bobine d’induction en cuivre à 4 spires, avec équipement de refroidissement et réglage de la bobine à 100mm. Générateur RF 13,56 MHz, jusqu’à 200 W avec dispositif de réglage. Ecran RF (440 x 340 x 340 mm). Refroidissement à l’air, contrôle du double flux manuel ou automatique. Rampe à double pompage turbomoléculaire monté en différentiel. Jauge de pression capacitive et affichage de la pression de la cellule. Analyseur de plasma Hiden EQP 500 avec variation de z sur 100 mm piloté par le logiciel MASsoft. Analyseur de masse et d’énergie pour les ions positifs et négatifs, les neutres et les radicaux.
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