HPR-80, Analizador Cuantitativo de Gas para Especies Reactivas/Corrosivas

Análisis cuantitativo rápido de mezclas reactivas o corrosivas introducidas en una cámara u obtenido durante un proceso.

• Estudio del grabado iónico utilizando iones de plasma o iones reactivos.
• CVD / PVD / MOCVD
• Estudios de fabricación de plaquitas (wafer) de semiconductores.
• Procesos al vacío / plasma.
• Análisis cuantitativo de especies reactivas.
• Estudios de proceso utilizando: HF, HCI, HBr y las CFC.

 

Características del HPR-80 Hiden, un instrumento específicamente concebido para el análisis muy potente de gases corrosivos y control de fabricación del semiconductor y de procesos al vacío:

 

• Fuelles flexibles pulidos por electrólisis y calentados, conectores de montaje rápido.
• Capilares de introducción de calibración QIC para análisis cuantitativos; QIC purgado por flujo viscoso de gas inerte.
• Gran sensibilidad (hasta 5 ppb) rango de masa hasta 2500 uma.
• Presión de muestreo: de 1 mTorr hasta presión atmosférica.
• Manómetro capacitado para un control de la presión independiente de los gases.
• Estabilidad (menos de ±0,5% de variación global de pico a pico en 24 h).
• Software MASsoft de control mediante un interface RS232, RS485 o una red Ethernet LAN.
• Inversión de matriz, normalización y utilización de un pico simple como referencia.

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